可編程邏輯控制器（plc）和工廠自動化的發(fā)展為了

2021-09-15

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協(xié)助業(yè)界人士加速實現(xiàn)相關(guān)解決方案，本文除針對工業(yè)自動化目標市場的隔離應用，專注于可編程邏輯控制器（plc）和工廠自動化的發(fā)展進行詳細的市場與技術(shù)分析外，也詳細說明了新型互補式金屬氧化物半導體（CMOS）數(shù)字隔離器相較于傳統(tǒng)光耦合隔離方案對工業(yè)自動化應用所帶來的顯著優(yōu)勢。
工業(yè)自動化的發(fā)展道路上，所包含的許多技術(shù)挑戰(zhàn)包括：
設(shè)備無法妥協(xié)
．功能至關(guān)重要。
．產(chǎn)品在高應力下性能穩(wěn)定。
高噪聲環(huán)境中的正常工作
．工廠外部電／磁場的抗干擾性高。
．高電壓瞬變噪聲的抗干擾能力強。
產(chǎn)品使用壽命長
．整個溫度范圍，不同VDD電壓，以及長期使用時，關(guān)鍵參數(shù)穩(wěn)定。
．在高應力下產(chǎn)品使用壽命長。

第四：高性能
．產(chǎn)品性能世界前茅。
．低延遲和低延遲偏差以確保效率和吞吐量。
基于上述的技術(shù)挑戰(zhàn)，適用于工業(yè)自動化的高性能隔離產(chǎn)品，高抗干擾性與長壽命。工廠存在很多高壓設(shè)備，透過隔離方案不僅能保護電子系統(tǒng)和人員，噪聲以確保設(shè)備的可靠度和穩(wěn)定性。隨著工業(yè)自動化應用對相關(guān)設(shè)備的性能要求提升，內(nèi)建隔離技術(shù)也開始發(fā)生轉(zhuǎn)變，傳統(tǒng)的隔離使用光耦合技術(shù)，由于先天的特性逐漸難以滿足工業(yè)自動化設(shè)計需求，包括可靠性較差、時序特性不佳、無余裕的共模瞬態(tài)噪聲免疫（CMTI）、能源效率低等，使業(yè)界開始將目光移至新型的CMOS電容耦合數(shù)字隔離器方案。